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等離子清洗機(jī)中頻、射頻、微波電源的區(qū)別！
等離子清洗機(jī)常見電源的頻率有3種，40KHz，13.56MHz，2.45GHz，也就是平時大家據(jù)說的中頻、射頻、微波。3種頻率的電源各有其優(yōu)勢，各有各的頻率，今天我給大家普及一些關(guān)于等離子清洗機(jī)電源關(guān)于頻率方面的知識
40KHz的電源就是大家平時所稱的中頻電源，簡單的來說就是能量高，但是等離子的密度較低。中頻電源在真空等離子清洗上被選用的基本上是真空腔體體積較大（一般大于100L，電極板數(shù)量較多，因為相對于射頻中頻在大功率電源比如5000W、10KW、20KW本身性能更穩(wěn)定、對于產(chǎn)生的等離子體中分子、離子獲得的動能更大、滲透性更好、偏重利用物理反應(yīng)
此外由于中頻電源直接輸出到電極板的電壓較高，其自偏壓較高，產(chǎn)生的負(fù)自偏壓引起了正離子的功率吸收，這也會直接引起電極板的溫度升高；同時由于在這過程中，離子會吸收部分的功率，因此用于電離的電子的功率吸收就與相應(yīng)的減少了，從而造成等離子體密度的較低和離子的能量較高，工藝處理溫度也會稍高。
射頻電源的功率都比較低，在真空等離子清洗機(jī)上被選用的基本上是真空腔體體積較小的設(shè)備，相對于中頻來說因為它頻率高、雖然分子、離子獲得的動能沒有中頻的高，但是能量的密度高，就處理效率來講還是明顯優(yōu)于中頻而且其物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)都表現(xiàn)很好
射頻等離子清洗機(jī)在射頻客性耦合方式的放電過程中，電極板產(chǎn)生的自偏壓受到放電氣壓的影響，自偏壓較小，電子的功率吸收主要來自于與電極板表面的振蕩鞘層相互作用。因此，射頻等離子清洗設(shè)備的激發(fā)頻率越高電子的功率吸收也會相對越高，相應(yīng)的離子轟擊的能量就會降低。
而說到微波等離子清洗機(jī)放電，這種清洗沒有自偏壓，離子濃度高，離子能量低，主要有兩種方式，即表面波型和電子回旋共振型，前者一般用于商業(yè)清洗，是通過輻射微波電磁場直接將氣體擊穿實(shí)現(xiàn)放電，其中并沒有離子的加速作用，其電子密度較高，但通常要求放電氣壓高，從而會引起等離子體局域化比較嚴(yán)重的情況，不利于縱深清洗和多層面的大尺度的清洗處理，此外，微波等離子清洗機(jī)也不適合對一些精密的電子元器件進(jìn)行處理。現(xiàn)在微波式的等離子目前真空腔體的體積做不大，技術(shù)還不夠成熟一般只能做到幾升的容積，用于試驗室內(nèi)）
